第一章 (第29/36页)
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林风的声音响起：这是我们的第一台国产EUV光刻机,‘破晓一号’。它用的光源,是我们自研的DPP-EUV（放电等离子体极紫外）光源,功率250瓦,波长13.5纳米,稳定性…还行。
屏幕上切换出光源参数实时监测数据。
光学镜组,由长春光机所联合攻关,采用我们自己的多层膜反射镜技术,数值孔径0.33,套刻精度…马马虎虎。
屏幕上出现镜组检测报告和模拟光路图。
双工件台,华卓精科出品,运动精度0.几纳米,同步误差…凑合能看。
工件台高速运动的实时捕捉画面,流畅精准。
控制系统,完全自研‘鸿蒙’光刻控制系统,基于开源架构深度优化,算力…够用。
屏幕上代码滚动,逻辑清晰。
林风的介绍平淡无奇,甚至带着点自嘲。但台下懂行的人,脸色已经变了！自研光源自研镜组自研工件台自研控制系统！这…这等于把EUV光刻机四大核心全部突破了！虽然参数听起来很谦虚,但…这可是从零开始！只用了一年！
现在,它正在生产一枚芯片。林风的声音依旧平静,一枚…我们自己的CPU。工艺节点…7纳米。
