第5章 等离子能量微投影系统 (第4/5页)
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“这是我们废土世界用来制造纳米级设备的核心技术。听你描述的功能，应该和你们的光刻机差不多。不过，我们的技术早已超越传统的物理光学成像，改用等离子能量进行三维投影制造。”苏清宁淡淡说道。
“这玩意儿听起来比光刻机牛多了吧！直接纳米级制造？三维投影？”林奕听得目瞪口呆，忍不住脱口而出。
“等离子能量投影系统的核心技术，不是传统的光学或者电子束，而是利用高能等离子体在纳米级材料上的能量激发。通过等离子场的精准调控，我们可以直接将三维投影的设计数据传递到材料上。整个过程不需要光刻掩膜或者多层曝光，效率远高于你们所谓的光刻机。”
“直接用能量场刻印？不用光刻掩膜？”林奕听得瞠目结舌。
果然是领先两个时代的科技呀，这是完全推翻了现有的工业基础重新创立的呀。
“我们用这种方法制造的芯片，理论上可以达到0.1纳米的极限精度。但实际上，为了性能与稳定性的平衡，我们通常生产的是0.5纳米到1纳米之间的芯片。以你们的技术标准，这已经是超越时代的水平了。”苏清宁继续说道。
“0.5纳米到1纳米……我们现在最先进的技术也才刚刚突破5纳米，听说3纳米的研发还在攻坚中！你的这个技术要是带到我们这里来，简直是降维打击啊！”林奕忍不住吸了口冷气。
“对我们来说，这种技术只是基础工业而已。如果你拿到这些资料，不仅要小心技术失控。”苏清宁冷冷瞥了他一眼。
“放心，我保证，只是作为技术研究参考，绝对不会乱用！”林奕连连点头，急切地说道。
